The UVISEL ellipsometer range offers the best combination of modularity and performance for thin film characterizations. Based on phase modulation technology, the UVISEL ellipsometers delivers high accuracy and high resolution measurements with an excellent signal to noise ratio.
UVISEL ellipsometers offer a modular design, enabling the best fit to your applications. Four spectral ranges are available covering wavelengths from 190 to 2100nm. Full automation, a large variety of accessories and integrated microspot optics make the UVISEL a powerful and versatile spectroscopic ellipsometer for demanding research and industrial quality control.
The UVISEL can be used either ex-situ or in-situ for integration with process chambers or roll-to-roll machines. A new configuration, called the UVISEL LT, features a compact, integrated goniometer to provide a very cost-effective ellipsometer.
The DeltaPsi2 software platform provides a complete measurement, modeling, and reporting package addressing both routine and advanced thin film applications.
From thin to thick layers, with or without a transparent substrate, in the fields of semiconductors, flat panel displays, optoelectronics, photovoltaics, and optical and functional coatings, the UVISEL is the best solution for precise characterization of thin film structures.
Product benefits:
- Highest precision, sensitivity, and resolution;
- Large spectral range: 190-2100 nm;
- Modular design;
- Fully integrated software package.
Obtained information:
→ Thin film thickness from 1Å to >45µm;
→ Optical constants (n,k) for isotropic, anisotropic, and graded films;
→ Surface and interface roughness;
→ Derived optical properties such as absorption coefficient α and optical bandgap Eg;
→ Material properties: compound alloy composition, porosity, crystallinity, morphology, uniformity;
→ Mueller matrix;
→ Depolarization.
Параметры | Значение |
Спектральный диапазон, нм
- UVISEL VUV
- UVISEL FUV
- UVISEL VIS
- UVISEL ER
- UVISEL NIR
|
145 – 880
190 – 880
210 – 880
190 – 2100
245 – 2100
|
Система детектирования
|
монохроматор высокого разрешения, стыкованный с чувствительными детекторами или 32/64 канальный мультиволновой модуль для быстрой регистрации
|
Неавтоматизированная конфигурация:
|
|
Размер аналитического пятна, мм
|
0,08 – 0,1 – 1 (диафрагма) 50µм по требованию
|
Столик для образца, мм
|
150 ручная подстройка по высоте (40 мм) и наклону
|
Гониометр: ручное изменение угла, град
|
от 55 до 90 с шагом 5
|
Автоматизированная конфигурация:
|
|
Ручной или автоматический выбор размера аналитического пятна, мм
|
0,08 – 0,1 – 1 0,08 – 0,12 – 0,25 – 1,2 (диафрагма)
|
Автоматический столик образца, мм
|
200 х 200
|
XY столик, мм
|
300 х 300
|
Ручная подстройка высоты (4 мм) и наклона образца
|
наличие
|
XYZ столик образца
|
наличие
|
Поворотный столик
|
наличие
|
Автоматический гониометр: автоматический выбор угла, град
|
от 40 до 90 с шагом 0,01
|
Интегрированный гониометр:
|
|
Ручное изменение угла, град
|
от 35 до 90 с шагом 5
|
Держатель образца: - диаметр, мм - подстройка по высоте, мм
|
150 20
|
Опция
|
автоколлиматор для подстройки наклона образца
|
In-situ конфигурация:
|
|
Механическая адаптация
|
CF35 или KF40 переходники
|
Простое переключение между in-situ и ex-situ конфигурациями
|
наличие
|
Опции:
|
|
Спектральный рефлектометр, нм
|
450 – 850 размер пятна 10µм
|
Система наблюдения образца
|
ПЗС камера
|
Качество измерений:
|
|
Точность, град
|
Ψ= 45±0,02 и Δ=0±0,02 измерения в воздухе напрямую в диапазоне 1,5 – 5 эВ
|
Воспроизводимость
|
NIST 1000Å SiO2/Si (190-2100 нм): d ± 0,1 % – n(632,8nm) ± 0,0001
|
Размеры (ДхШхВ), см
|
25 х 35 х 21
|