Спектральный эллипсометр UVISEL

Высокоточный эллипсометр научного класса.

  • широкий спектральный диапазон – от 145 до 2100 нм;
  • модульная компоновка для выбора конфигурации под конкретные задачи;
  • патентованная система микропучка – до 50 микрон практически во всем спектральном диапазоне.

Линейка спектральных эллипсометров UVISEL обеспечивает лучшую комбинацию модульности и качества измерений для продвинутого анализа тонких пленок, поверхностей и границ раздела. Применяемая в приборе технология фазовой модуляции позволяет работать в спектральном диапазоне от 145 до 2100 нм и получать результаты с высокой точностью, высоким разрешением и отличным соотношением сигнал/шум. Технология фазовой модуляции отслеживает поляризационные изменения с высокой частотой (50 кГц) и без каких-либо механических перемещений.

Преимуществами такого метода являются высокоточные измерения для всех значений Ψ и Δ, отличное соотношение сигнал/шум от ВУФ до БИК, быстрая регистрация данных со скоростью до 50 мс на точку (идеально подходит для проведения кинетических измерений и in-situ анализа).


Эллипсометр UVISEL обладает более высокой чувствительностью и воспроизводимостью, чем стандартный эллипсометр, использующий вращающиеся элементы. Прибор позволяет исследовать сверхтонкие пленки и границы раздела, что не под силу другим эллипсометрам, а также анализировать толстые пленки до 30 мкм. Измерение и анализ прозрачных образцов просты, точны и не требуют нанесения царапин на нижнюю поверхность образца. Многофункциональное конфигурирование позволяет выбирать из 6 различных спектральных диапазонов: видимый, УФ, ИК, ВУФ и два расширенных диапазона: от 190 до 2100 нм и от 145 до 2100 нм. Автоматизированные модули и аксессуары дают возможность подобрать конфигурацию под конкретные задачи пользователя. Модульный дизайн прибора делает возможным его использование как в настольной конфигурации, так и в in-situ режиме, например, на напылительной камере.

Преимущества прибора:
  • Высокая точность и чувствительность;
  • Модульный дизайн;
  • Широкий спектральный диапазон: 145-2100 нм;
  • Полностью интегрированное программное обеспечение для измерений, моделирования и автоматизации процедур.

Получаемая информация:
→ толщины тонких пленок от 1Å до 30 мкм;
→ шероховатость поверхности и границы раздела;
→ оптические константы (n,k) для изотропных, анизотропных и градиентных образцов;
→ расчетные параметры образца, такие как: коэффициент абсорбции α, ширина запрещенной зоны Eg;
→ свойства материала: композиция компонентов сплава, пористость, степень кристалличности, морфология и др.;
→ матрица Мюллера;
→ деполяризация.

Работа UVISEL контролируется программным обеспечением DeltaPsi2, общим для всех эллипсометров HORIBA. DeltaPsi2 позволяет осуществлять полный анализ свойств тонких пленок для рутинного анализа и научных исследований.

Дополнительные принадлежности: температурная ячейка, жидкостная ячейка, электрохимическая ячейка, рефлектометрический модуль для анализа отражения при 0°.

Параметры Значение

Спектральный диапазон, нм
- UVISEL VUV
- UVISEL FUV
- UVISEL VIS
- UVISEL ER
- UVISEL NIR


145 – 880
190 – 880
210 – 880
190 – 2100
245 – 2100

Система детектирования

монохроматор высокого разрешения, стыкованный с чувствительными детекторами или 32/64 канальный мультиволновой модуль для быстрой регистрации

Неавтоматизированная конфигурация:

Размер аналитического пятна, мм

0,08 – 0,1 – 1 (диафрагма)
50µм по требованию

Столик для образца, мм

150
ручная подстройка по высоте (40 мм) и наклону

Гониометр: ручное изменение угла, град

от 55 до 90 с шагом 5

Автоматизированная конфигурация:

Ручной или автоматический выбор размера аналитического пятна, мм

0,08 – 0,1 – 1
0,08 – 0,12 – 0,25 – 1,2 (диафрагма)

Автоматический столик образца, мм

200 х 200

XY столик, мм

300 х 300

Ручная подстройка высоты (4 мм) и наклона образца

наличие

XYZ столик образца

наличие

Поворотный столик

наличие

Автоматический гониометр: автоматический выбор угла, град

от 40 до 90 с шагом 0,01

Интегрированный гониометр:

Ручное изменение угла, град

от 35 до 90 с шагом 5

Держатель образца:
- диаметр, мм
- подстройка по высоте, мм


150
20

Опция

автоколлиматор для подстройки наклона образца

In-situ конфигурация:

Механическая адаптация

CF35 или KF40 переходники

Простое переключение между in-situ и ex-situ конфигурациями

наличие

Опции:

Спектральный рефлектометр, нм

450 – 850
размер пятна 10µм

Система наблюдения образца

ПЗС камера

Качество измерений:

Точность, град

Ψ= 45±0,02 и Δ=0±0,02 измерения в воздухе напрямую в диапазоне 1,5 – 5 эВ

Воспроизводимость

NIST 1000Å SiO2/Si (190-2100 нм):
d ± 0,1 % – n(632,8nm) ± 0,0001

Размеры (ДхШхВ), см

25 х 35 х 21

Брошюра HORIBA Uvisel рус.pdf

Брошюра HORIBA Uvisel (eng).pdf

FAQ Спектральная эллипсометрия - Общие вопросы.pdf

FAQ Спектральная эллипсометрия - Инструментарий.pdf

FAQ Спектральная эллипсометрия - Методики измерений.pdf

FAQ Спектральная эллипсометрия - Анализ данных.pdf

Приложение Эллипсометрия - Определение оптических характеристик ITO пленок (рус).pdf

Приложение Эллипсометрия - Анализ SiO2 на прозрачной подложке (eng).pdf

Приложение Эллипсометрия - Анализ TFT панелей (eng).pdf

Приложение Эллипсометрия - Анализ биосенсоров на основе системы биотин-авидин (eng).pdf

Приложение Эллипсометрия - Анализ тонких пленок на основе CIGS (CuIn1-xGaxSe2) (eng).pdf

Приложение Эллипсометрия - Анализ функционализированных нанокристаллов (eng).pdf

Приложение Эллипсометрия - Анализ электрохромных материалов (eng).pdf

Приложение Эллипсометрия - Исследование алмазов с примесями и без примесей (eng).pdf

Приложение Эллипсометрия - Исследование свойств органических светодиодов (eng).pdf

Приложение Эллипсометрия - Исследование термохромных свойств материалов (eng).pdf

Приложение Эллипсометрия - Исследование тонкопленочных устройств на основе LED (eng).pdf

Приложение Эллипсометрия - Исследование ферроэлектрических пленок (eng).pdf

Приложение Эллипсометрия - Оптические свойства пленок Y2O3 (eng).pdf

Приложение Эллипсометрия - Оптический анализ органических полупроводников (eng).pdf

Приложение Эллипсометрия - Применение эллипсометрии в фотовольтаике (eng).pdf

Приложения метода спектральной эллипсометрии.pdf

Приложение Эллипсометрия - Исследования оптических констант тонких пленок фуллеренов C60 и C70 (eng).pdf

Приложение Эллипсометрия – Определение характеристик тонких светодиодных пленок (рус).pdf

Доступные опции и аксессуары:

Изображение Опция Краткое описание

XYmotorized.jpg

Моторизированный XY столик

Обеспечивает автоматизированное перемещение образца для проведения картирования. Дополнительные функции, такие, как возможность наблюдения образца с помощью системы на базе CCD камеры в сочетании с интегрированной оптикой формирования микропучка обеспечивают идеальное решение для определения характеристик пластин с рисунком.

autogonio.jpg

Автоматический гониометр

Предназначен для проведения изменения образцов при разных углах падения. Целью многократного измерения при разных углах является увеличение количества доступных данных для определения характеристик материала. Кроме того, каждый материал имеет угол Брюстера, при котором достигается наибольшая чувствительность.

compact_integrated_goniometer-sm.jpg

Ручной гониометр

Обеспечивает экономически эффективное решение для настольных эллипсометров. Данная конфигурация удобна для большинства областей применения. Диапазон изменения угла падения составляет 35-90° с шагом 5°.

thermostage.jpg

Термостатируемый предметный столик

Предназначен для измерения характеристик образцов в диапазоне температур от -196°C до 350°C или от комнатной температуры до 600°C. Области применения: термический анализ переходов полимеров, анализ зонной структуры сложных сплавов.

Electrochemical_cell-sm.jpg

Электрохимическая ячейка

Используется для изучения электрохимических процессов. Оптический доступ к образцу осуществляется через 3 окна, изготовленных из плавленого Si. Два окна расположены под углом 70º к нормали, третье окно предназначено для наблюдения за образцом, расположенным внутри ячейки. Ячейка, контактирующая с образцом, изготавливается из ПВХ, а держатель образца – из ПТФЭ. Ячейка содержит эталонный и интегрирующий электроды из Ag/AgCl и Pt соответственно. Объем ячейки составляет 43 мл.

Liquid_cell-sm.jpg

Жидкостная ячейка

Предназначена для обеспечения легкого процесса измерения границ раздела фаз (жидкость/жидкость, твердое вещество/жидкость). Состоит из кюветы объемом 12 мл (размер ДхШхВ 30х30x13 мм). Изготовлена из нержавеющей стали и PEEK полимера. Имеет два УФ окна из Si, установленных под углом 70°. Используемые материалы и конструкция ячейки позволяют осуществлять полный демонтаж для проведения очистки, что помогает устранить перекрестное загрязнение при проведении экспериментов с различными образцами.

cellule-azote-detouree.jpg

Герметичная ячейка

Разработана для проведения исследований образцов, чувствительных к воздушной среде или влаге, или для проведения исследования влияния паров или газов на многослойные покрытия. Обеспечивает полную герметичность, предотвращая взаимодействие образца с окружающей воздушной средой. Изготовлена из PTFE материала и предназначена для установки образцов с габаритными размерами до 50х50 мм с возможностью перемещения образца в пределах 10х10 мм по осям XY для проведения картирования. В конструкцию ячейки интегрирована проточная система, что делает возможным введение внутрь системы различных газов или паров. Исследуемый образец помещается внутрь ячейки, а оптический луч проходит через два УФ окна, изготовленных из плавленого Si и расположенных под углом 60°. Дополнительное окно в верхней части предназначено для выравнивания положения образца.

Криостат

Предназначен для поддержания низкой температуры образца Доступен по запросу. Пожалуйста, обратитесь к нам для получения более подробной информации.

rotation_stage-sm.jpg

Поворотный или θ столик

Позволяет производить автоматизированное вращение образца вокруг оси. Предназначен для определения характеристик анизотропных образцов и жидких кристаллов. Диапазон вращения 0-360°, диаметр столика 150 мм, угловое разрешение 0,005°.

tilted_sample_stage.jpg

Наклонный предметный столик

Ключевым элементом является держатель образца размером 160х160 мм с вакуумным держателем. Диапазон регулировки угла наклона составляет 90° (отсчет от горизонтального положения), что идеально подходит для оптимизации исследования текстурированных кремниевых фотогальванических образцов толщиной до 10 мм. Предметный столик также позволяет осуществлять картирование исследуемых образцов.

Tilted_Sample_Holder.jpg

Наклонный держатель образцов

Позволяет проводить измерение пропускания образцов диаметром от 10 до 50 мм при угле гониометра 70°. Устанавливается непосредственно на стандартной предметный столик.

Flexible_Substrate_Holder.jpg

Держатель гибких подложек

Обеспечивает быструю установку гибких образцов в двойное железное кольцо для проведения измерений. Доступно два диаметра: 20 и 50 мм.




Яндекс.Метрика